(蘇威)索爾維Hyflon係列PFA和MFA特種聚合物
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Hyflon® AD 產品牌號 |
Hyflon® AD 40H |
Hyflon® AD 40L |
Hyflon® AD 60 |
Hyflon® PFA 產品牌號 | Hyflon® MFA® 產品牌號 |
Hyflon® PFA 120X | Hyflon® MFA® 1041 |
Hyflon® PFA 125X | Hyflon® MFA® F1520 |
Hyflon® PFA 140X | Hyflon® MFA® F1540 |
Hyflon® PFA P420 | Hyflon® MFA® F1750X |
Hyflon® PFA P430X | Hyflon® MFA® 6521 |
Hyflon® PFA P450 | |
Hyflon® PFA P455X | |
Hyflon® PFA M620 | |
Hyflon® PFA M640 |
特性 | AD 40 | AD 60 | |
密度 | g/cm3 | 1.98 | 1.93 |
Tg | °C | 95 | 125 |
折射率 | 1.331 | 1.327 |
適用於半導體和膜應用的美國(蘇威)索爾維Hyflon-AD
Hyflon® AD 是一係列非結晶全氟聚合物,其性能特性類似於半結晶性全氟聚合物。
主要特性
高溫穩定性
良好的耐化學性
優異的疏水性
極低的表麵能
低介電常數
極高的氣體滲透性和選擇性
出色的光學性能(如紫外線透射率高,而折射率低)
美國(蘇威)索爾維Hyflon-AD係列PFA非結晶全氟聚合物加工:
Hyflon® AD 聚合物具有一項與眾不同的特征,即可在某些溶劑中溶解。尤其是它們在全氟溶劑中的高溶解性和低溶液粘度,使 Hyflon® AD 適用於溶液加工技術。
憑借流延或塗覆技術及熱處理(遠低於半結晶性全氟聚合物的常用烘烤溫度),Hyflon® AD可以生產出均勻的薄膜或薄塗層(厚度可低至亞微米)。
美國(蘇威)索爾維Hyflon-AD應用:
半導體
由於具有以下獨特特性,Hyflon® AD 可用於生產電子產品的光罩護膜(顯微光刻):
出色的光學性能
極低的表麵能
極低的介電常數
形成均勻的薄膜或薄塗層(厚度可低至亞微米)的能力
適合采用溶液加工技術(噴塗、流延及旋塗)
在全氟溶劑中的溶解性(低溶液粘度)
滲透膜
由於具有以下優點,Hyflon® AD 適用於製備各種氣體分離膜:
極高的氣體滲透性和選擇性
優異的疏水性
高溫穩定性
形成均勻的薄膜或薄塗層(厚度可低至亞微米)的能力
適合采用溶液加工技術(噴塗、流延及旋塗)
在全氟溶劑中的溶解性(低溶液粘度)。
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